第四十二章 1号试验车间

超过2万；大于0·5微米的尘粒数，最多不能超过350万。

    这种车间，也就是我们常说的C级车间。

    可用来装备液压设备或挤压设备，食品饮料等。

    进出必须穿长袍无尘衣、无尘鞋、戴帽子与面罩。

    100级无尘车间的规格，则要求每立方米内，微生物和浮游菌数，不能超过5个；大于5微米的尘粒数不能存在；大于0·5微米的尘粒数，最多不能超过3500个。

    这也是我们后世中，最常见的A级无尘车间。

    一般用于医药工业的无菌制造，尖端光学产品的生产，或者顶尖的外科手术以及术后隔离上。

    进出需要穿戴特殊的洁净连体衣和无尘鞋，将全身裹住，并戴上手套和面罩。

    而1级的无尘车间，已经不允许有1微米以上的尘粒了。

    这种车间，多用于集成电路的微电子工业，可以满足精确到亚微米的需求。

    但是事实上，10级的无尘车间，也能满足线宽小于2微米的半导体工业需求。

    莫世文规划的这座试验性科技园区。

    涵盖了从万级到1级的好几个类别。

    为的就是一步到位，省却有需要时临时抱佛脚的麻烦。

    比如在明年的规划里。

    汽车发动机的制造与组装、特种合金的材料制备、超高分子量聚乙烯纤维和碳纤维的工艺生产制备试验等。

    都离不开这样标准的车间。

    “昌明工业大厦那边的所有东西，都在这里了？”

    莫非看着车间内无数的机床设备和实验仪器，感觉有些眼花缭乱的。

    “一部分在这里，还有一部分并没有拿出来。”

    莫世文这样一说，莫非也就瞬间明白了。

    的确，有好多东西，还是暂时无法曝光的。

    只能等盘古研究院的五行楼交付使用之后，莫世文有了真正的独立实验室，才能肆无忌惮的大展拳脚。

    而现在的1号试验车间，是准备用来为天工半导体打造芯片生产线的。

    到时候，会有不少的工程师入驻。

    按照当初周崇华在美利坚招聘时签署的合约，这些人，大多数是要在元旦后才会来香江的。

    而正式的大规模招聘，莫非还是决定放在研究院正式启用之前。

    否则，还真的很难安排如何分工。

    当然了，这些事情也不需要他来操心。

    商务上有周崇华和他的团队负责，研发上有莫世文在统筹安排，哪一个都比他强了不止一筹。

    而他，也乐的站在背后指点江山。

    现在这样一内一外的局势，很完善也很和谐。

    内部掌握核心技术，进而推陈出新，更迭换代，专注于项目研发。

    至于需要的外购件以及完善的技术专利，则交给外部去操作。

    泾渭分明且配合默契，绝对的相得益彰。

    比如这次需要打造的芯片生产线，也有很多零部件需要外购，世界上没有哪一家公司，可以做到全覆盖上中下游所有产业链的。

    哪怕一个国家，有时候都不行。

    就拿光刻机来说吧，其实它说白了就是一台超、超、超高精密度的照相机，能把设计好的电路投影到硅片上。

    所谓的光刻机构件。

    也不外乎是对准器与正负性光刻胶等。

    但是它的发展，却一直在求新求变。

    从60年代的触式和接近式，到70年代的投影式，再到80年代步进式，甚至新世纪的浸入式以及EUV。

    都可以写一本小说了。

    光刻机的重要性毋庸置疑，各国也一直在持续投入研发光刻技术。

    1978年，美利坚的GCA公司，花费500万美元的巨资，终于开发出了光学图形发生器和分步重复精缩机。

    成功研制出了全球第一台，分步重复投影曝光机Mann4800DSW。

    将线宽从1·5微米，缩小到了0·5微米节点。

    它用的，是波长436纳米的G线，作为曝光光源，CarlZeiss的S-Planar10/0·28镜头，进行10：1的缩小比例曝光。

    可以对10毫米乘以10毫米的区域进行曝光，分辨率可达1微米。

    售价45万美元。

    相对于之前市场上，那些接触式或接近式的设备，GCA的Mann4800DSW可以说是革命性的。

    它不但改变了对准器对晶圆造成的污染，还利用分步重复的大覆盖面，进一步提高了产品的良品率。

    但是，它有一个很致命的缺陷，那就是吞吐量太低。

    致使生产效率无法提高。

    所以，莫非想要的，是新一代步进扫描式投影曝光机。

    将光源技术、物镜技术，以及后来的精密工作台的制造技术，全部攥到手里。

    至于普通的零部件，满世界有的是商家提供。

    不但能货比三家，还可以随时有备胎可以选择。

    这才是理想中的形势。

    他想尝试一下，看看自己是不是比老美更牛逼。

    在光刻机领域内，后世的阿斯麦够牛吧，在高端市场上一统江山，无人能出其右，要多风光有多风光。

    但是，仔细分析一下，你就会发现。

    阿斯麦的风光，基础并不那么牢靠。

    它算得上是一个集大成者的企业，却绝不是一家，可以俯瞰芸芸众生的企业。

    因为他自己掌握的核心技术，只有百分之几。

    而EUV光刻机的核心技术，集中在哪方面上呢？

    答案是德意志蔡司的高精度镜头，同样来自于德意志的精密工作台制造技术，以及2012年收购的Cymer的光源激光技术。

    当然了，还有一个方面。

    那就是EUV的很多专利，其实都在EUVLLC联盟手里。

    而这个联盟是由谁组成的呢？

    答案还是美利坚。

    其成员包括英特尔、美利坚能源部、摩托罗拉、AMD、美利坚的三大国家实验室劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室……

    最后才是阿斯麦。

    这样看来，阿斯麦，倒是像极了一个被推到前台的傀儡。

    所以，阿斯麦算是应运而生。

    为什么这么说呢，就是因为它崛起的时机太好了。